| 青島濺射靶材 棗莊鍍膜靶材 東營金屬濺射靶材 |
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價格:1 元(人民幣) | 產(chǎn)地:洛陽 |
| 最少起訂量:1個 | 發(fā)貨地:洛陽 | |
| 上架時間:2021-01-28 10:56:14 | 瀏覽量:810 | |
洛陽高新四豐電子材料有限公司銷售部
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| 經(jīng)營模式:生產(chǎn)加工 | 公司類型:私營股份有限公司 | |
| 所屬行業(yè):稀有金屬及合金 | 主要客戶:顯示屏生產(chǎn)廠家 | |
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濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導(dǎo)體集成電路、太陽能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。 主要應(yīng)用 濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。 分類 根據(jù)形狀可分為方靶,圓靶,異型靶 根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根據(jù)應(yīng)用不同又分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等 根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導(dǎo)電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電ji靶材、封裝靶材、其他靶材 磁控濺射原理:在被濺射的靶ji(陰ji)與陽ji之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負高壓,從靶ji發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰ji附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種:支流濺射和射頻濺射,其中支流濺射設(shè)備原理簡單,在濺射金屬時,其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛,除可濺射導(dǎo)電材料外,也可濺射非導(dǎo)電的材料,同時還司進行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。 洛陽高新四豐電子材料有限公司是一家從事TFT-LCD/AMOLED、半導(dǎo)體IC制造用高純?yōu)R射靶材——高純鉬/銅/鈦等系列產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。濺射靶材產(chǎn)品主要有TFT-LCD/AMOLED、半導(dǎo)體IC及光伏太陽能制造用高純鉬及鉬合金、銅、鈦、鎢等平面靶材和旋轉(zhuǎn)管靶等金屬靶材。此外,公司生產(chǎn)的鎢鉬深加工制品、鎢合金薄板用鎢合金、TZM板棒材、精加工鎢鉬零件等超高溫特種功能材料廣泛應(yīng)用于單晶爐、鋼鐵、醫(yī)療等行業(yè)。歡迎大家咨詢選購。 洛陽高新四豐電子材料有限公司
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