| 真空熱處理爐1·10-3 Pa |
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包括雙層水冷爐殼,電極,加熱體,溫度測(cè)量裝置,冷卻水裝置,真空系統(tǒng),電源和控制柜(如果需要的話,還有脫蠟裝置和氣氛處理裝置)。根據(jù)不同的工藝要求,爐殼材料可以是低碳鋼或不銹鋼。爐體可以是臥式設(shè)計(jì),也可以是立式設(shè)計(jì)。加熱控制 區(qū)的數(shù)量多可以達(dá)到8個(gè)(或更多),通過(guò)調(diào)整這些熱區(qū)的數(shù)量和布局可以獲得較好的均溫性,部分爐型可以優(yōu)于±2°C。 如果要求較高的均溫性或工藝,如配備脫蠟工藝步驟時(shí),熱區(qū)內(nèi)就會(huì)配有密閉的石墨箱。 利用大量流動(dòng)的工藝氣體可以做產(chǎn)品的化學(xué)處理,如石墨制品或CFC制品的高溫化學(xué)純化,工藝氣體可以是N2, Ar, CH4, H2, HCl, R12, R134a等。 對(duì)于抽真空,可以使用大量不同類(lèi)型的泵組。根據(jù)工藝要求,可以獲得的壓力范圍是0.1 mbar (10 Pa) 到 1·10-5 mbar (1·10-3 Pa)。 微處理器控制的程序順序可確保工藝的全自動(dòng)化和可重復(fù)性、以及穩(wěn)定的產(chǎn)品質(zhì)量。計(jì)算機(jī)操作界面和相應(yīng)的數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)可以滿足高可靠質(zhì)量控制的要求。 特點(diǎn): 設(shè)計(jì)溫度 2200°C. 有效體積從 4.5 升 到 13立方米 (可以更大,取決于客戶的要求) 采用獨(dú)立加熱器分區(qū)加熱 在有效空間內(nèi)的均溫性可以達(dá)到±2 K 真空范圍可達(dá)到 1·10-5 mbar (1·10-3 Pa). 用于模壓件和擠壓件的高效脫蠟系統(tǒng) 能在可燃?xì)怏w下安全可靠地操作 整個(gè)工藝全自動(dòng)操作 通過(guò)PC進(jìn)行操作,包括數(shù)據(jù)記錄和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等. |
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