| 原子層氣相沉積 |
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價(jià)格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：河南鄭州 |
| 最少起訂量：1套 | 發(fā)貨地：河南鄭州 | |
| 上架時(shí)間：2023-01-06 09:16:13 | 瀏覽量：103 | |
鄭州邦達(dá)電氣有限公司
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| 經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)加工 | 公司類型：私營(yíng)獨(dú)資企業(yè) | |
| 所屬行業(yè)：電子產(chǎn)品制造設(shè)備 | 主要客戶：全國(guó) | |
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原?層沉積是基于表?控制的薄膜沉積技術(shù)。在鍍膜過(guò)程中，兩種或更多的化學(xué)?相前驅(qū)體依次在基底表?發(fā)?化學(xué)反應(yīng)從?產(chǎn)?固態(tài)的薄膜。在反應(yīng)腔內(nèi)有惰性載?穿過(guò)；前驅(qū)體通過(guò)極短的脈沖注?到這個(gè)惰性載?中。 惰性載?攜帶著前驅(qū)體脈沖作為?種有序“波”依次通過(guò)反應(yīng)腔，真空泵管路，過(guò)濾系統(tǒng)，并終通過(guò)真空泵。 ALD前驅(qū) 可?原?層沉積的常?的材料包括（選擇）： 氧化物: Al2O3, CaO, CuO, Er2O3, Ga2O3, HfO2, La2O3, MgO, Nb2O5, Sc2O3, SiO2, Ta2O5, TiO2, VXOY, Y2O3, Yb2O3, ZnO, ZrO2, etc. 氮化物: AlN, GaN, TaNX, TiAlN, TiNX, etc. 碳化物: TaC, TiC, etc. ?屬: Ir, Pd, Pt, Ru, etc. 硫化物: ZnS, SrS, etc. 氟化物: CaF2, LaF3, MgF2, SrF2, etc. ?物材料: Ca10(PO4)6(OH)2 (hydroxyapatite) 聚合物: PMDA–DAH, PMDA–ODA, etc. 摻雜納?涂層和復(fù)合結(jié)構(gòu)：ALD 可以使??量不同的材料組合 |
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