| trymax 半導(dǎo)體 光刻膠剝離及灰化設(shè)備 等離子去膠機(jī) neo200a系列 |
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價(jià)格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：本地 |
| 最少起訂量：1 | 發(fā)貨地：本地至全國(guó) | |
| 上架時(shí)間：2019-05-06 23:35:53 | 瀏覽量：220 | |
上海儀恩埃半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
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| 經(jīng)營(yíng)模式：其他 | 公司類型：否 | |
| 所屬行業(yè)：分立半導(dǎo)體 | 主要客戶：全國(guó) | |
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加工定制否 品牌trymax 型號(hào)neo2400 用途光刻膠剝離及灰化設(shè)備 別名去膠機(jī) 規(guī)格1 展開(kāi) trymax 半導(dǎo)體 光刻膠剝離及灰化設(shè)備 等離子去膠機(jī) neo200a系列 點(diǎn)我去除廣告 trymax半導(dǎo)體光刻膠剝離及灰化設(shè)備等離子體去膠機(jī)neo200系列 trymax半導(dǎo)體設(shè)備neo200系列等離子去膠機(jī)是目前世界上進(jìn)的等離子體光刻膠剝離及灰化的設(shè)備。 neo 200系統(tǒng)可以用于目前任何可能的工藝過(guò)程，可用于直徑為200mm的襯底兼容。      ?產(chǎn)品特點(diǎn)： 高達(dá)200毫米晶圓尺寸/基板尺寸 4個(gè)集成上料口or 4個(gè)開(kāi)盒基臺(tái) 4軸雙臂機(jī)械人處理； 選擇性降溫和缺口對(duì)準(zhǔn)； 2到4個(gè)制程室； 4個(gè)不同的進(jìn)程腔體: ?單微波源配置(2.45 ghz) ?單射頻源配置(13.56 mhz) ?雙源配置(mw, rf) ? dcp (rf,雙源) -良好的一致性與可重復(fù)性； -機(jī)械速率> 300wph -占地面積小 -使用成本低 -全數(shù)字控制 -工業(yè)計(jì)算機(jī)windows ?應(yīng)用 大范圍光阻剝除 清除浮渣工藝 光刻膠去除 高溶量植入（溶膠）去處 氮化硅刻蝕應(yīng)用 mems應(yīng)用 先進(jìn)封裝工藝(pr, pi, bcb, pbo) qq：330982708 手機(jī)：18146536415 |
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