| PECVD開啟式真空管式爐 |
 |
價格：1 元(人民幣) | 產(chǎn)地：江蘇蘇州 |
| 最少起訂量：1臺 | 發(fā)貨地：蘇州昆山開發(fā)區(qū)六時涇路28號 | |
| 上架時間：2018-04-17 09:29:17 | 瀏覽量：703 | |
蘇州諾曼比爾材料科技有限公司
 |
||
| 經(jīng)營模式：生產(chǎn)加工 | 公司類型：私營有限責(zé)任公司 | |
| 所屬行業(yè)：鑄造設(shè)備 | 主要客戶：科研單位、大專院校、新材料、新能源、物理、化學(xué)、冶金、玻璃、鋰能等領(lǐng)域 | |
 在線咨詢  |
||
| 聯(lián)系人:宋星 (小姐) | 手機:13611955249 |
電話: |
傳真: |
| 郵箱:songxing@normanbell.cn | 地址:中國江蘇 蘇州市昆山市開發(fā)區(qū)六時涇路28號 |
|
PECVD
設(shè)備介紹： 本設(shè)備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)。 主要特點： 1、通過射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。 2、PECVD比普通CVD進行化學(xué)氣相沉積所需的溫度更低。 3、可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小。 4、PECVD比普通CVD進行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。 5、廣泛應(yīng)用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 版權(quán)聲明：以上所展示的信息由會員自行提供，內(nèi)容的真實性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會員負(fù)責(zé)。機電之家對此不承擔(dān)任何責(zé)任。 友情提醒：為規(guī)避購買風(fēng)險，建議您在購買相關(guān)產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。 |
機電之家網(wǎng) - 機電行業(yè)權(quán)威網(wǎng)絡(luò)宣傳媒體
關(guān)于我們 | 聯(lián)系我們 | 廣告合作 | 付款方式 | 使用幫助 | 會員助手 | 免費鏈接Copyright 2026 jdzj.com All Rights Reserved??技術(shù)支持：機電之家 服務(wù)熱線：0571-87774297
網(wǎng)站經(jīng)營許可證:浙B2-20080178
