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片狀氧化鋁WCA40 31um 33um 35um平板狀氧化鋁

平板狀氧化鋁拋光粉是以 工業(yè)氧化鋁粉為原料，采用特殊生產(chǎn)工藝處理，生產(chǎn)出來的氧化鋁拋光粉晶體形狀呈六角平板狀，因而稱之為平板狀氧化鋁或片狀氧化鋁。

平板狀氧化鋁的氧化鋁純度 以上，具有耐熱， 腐蝕，硬度高的特點。與傳統(tǒng)磨料球形顆粒不同，平板狀氧化鋁的底面平整，研磨時顆粒貼合工件表面，產(chǎn)生滑動的研磨效果，避免了顆粒尖角對工件表面的劃傷，另一方面，平板狀氧化鋁進行研磨時，研磨壓力是均勻分布在顆粒表面，顆粒不易破碎， 性能提高，從而提高了研磨效率和表面光潔度。

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對于半導體材料如半導體硅片，平板狀氧化鋁的應(yīng)用，可以減少磨削時間，大幅提高研磨效率，減少磨片機的損耗，節(jié)省人工和磨削 ，提高磨削合格率。品質(zhì)接近國外 品牌。

顯像管玻殼磨削工效提高3-5倍；

合格品率提高10-15，半導體硅片合格品率達到 以上；

研磨消耗量比普通氧化鋁拋光粉減少40-40；

平板狀氧化鋁微粉是以工業(yè)氧化鋁粉為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小,經(jīng)特殊處理和嚴顆粒呈 的平板狀結(jié)構(gòu),硬度高達莫氏九級,磨削力強,不易產(chǎn)生劃痕,可得到 的被加工表面,有特殊設(shè)計的粒度分布,質(zhì)量和日本FUJIMI公司相當。

平板氧化鋁研磨拋光微粉的特點(片狀氧化鋁WCA40 31um 33um 35um平板狀氧化鋁)

1）平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的區(qū)別是：片狀，硬度高，粒度均勻。

2）特點為：

A、形狀為平板狀，即片狀，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可減少磨片機的數(shù)量、人工和磨削時間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍；

B、由于形狀為平板狀，故對于被磨對象（如半導體硅片等）來說不易劃傷，合格品率可提高10至15，如半導體硅片，其合格品率一般能達到 以上；

C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數(shù)量的產(chǎn)品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40至50；

D、與國外同類產(chǎn)品相比，質(zhì)量達到或超過國外同類產(chǎn)品，品質(zhì)已達到 ，但產(chǎn)品只有國外同類產(chǎn)品的50；

E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能，故加工的產(chǎn)品合格品 ，質(zhì)量穩(wěn)定，生產(chǎn) 只有原來的50-60。

3、片狀氧化鋁是以工業(yè)氧化鋁為原料，添加復合礦化劑，經(jīng)過高溫煅燒而成。晶體形貌為具有一定厚度的片狀備用于以下方面的研磨拋光磨料，平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途:

1）電子行業(yè): 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體的研拋。

2）玻璃行業(yè): 硬質(zhì)玻璃和顯象管玻殼的加工。

3）涂附行業(yè): 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。

4）金屬和陶瓷加工業(yè)。

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化學成分：（片狀氧化鋁WCA40 31um 33um 35um平板狀氧化鋁）

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物理性能：（片狀氧化鋁WCA40 31um 33um 35um平板狀氧化鋁）

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生產(chǎn)規(guī)格：（片狀氧化鋁WCA40 31um 33um 35um平板狀氧化鋁）

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產(chǎn)品應(yīng)用范圍：（片狀氧化鋁WCA40 31um 33um 35um平板狀氧化鋁）

??? 1）電子行業(yè) ： 半導體單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體（砷化鎵、磷化銦）的研磨拋光。
??? 2）玻璃行業(yè) ： 水晶，石英玻璃，顯象管玻殼屏，光學玻璃，液晶顯示器（LCD）玻璃基板，壓電石英晶體的研磨加工。
??? 3）涂附行業(yè) ： 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。
??? 4）金屬和陶瓷加工業(yè) 陶瓷材料，燒結(jié)陶瓷原料， 高溫涂料等

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